フォトマスクの種類は様々 レチクル / マスターマスク / コピーマスク / 中大型マスクなど多彩なサイズに対応

FILCON PHOTOMASK

様々な現場で使われるフォトマスク。お客様のニーズに合わせた最適な製品を提供します。

フォトマスクの種類

フォトマスクは用途に応じてレチクル、マスターマスク、ワーキングマスク、コピーマスクなどいくつかの呼称があります。
弊社では、それぞれを下記の通り定義しています。

レチクル

ステッパー/スキャナー(ステップ&リピート露光方式)でウェハに回路パターンを転写するためのフォトマスクです。
各種ステッパーに対応しています。回路パターンは使用するステッパーのレンズ縮小倍率によって複数種類の倍率があります。

ワーキングマスク

製造方法は、マスターマスクと同じですが、コピーマスクを作らず、マスターマスクをそのままアライナーで使用するためのマスクです。フォトマスクとウェハをコンタクトしないで露光するミラープロジェクションアライナーなどで使用されます。

マスターマスク

コピーマスクを製作するためのフォトマスクです。回路パターンはウェハ上の回路パターンサイズと同じ倍率(1倍=等倍)で製作されます。

コピーマスク

アライナー(一括露光方式)によりウェハに回路パターンを転写するために、プリンターでマスターマスクからコピー(反転) 製作されたマスクです。

フォトマスクタイプ・マトリックス

フォトマスク種類の違いにより、対応可能なサイズや基材ガラスが下記のように異なります。

マスクの種類 遮光膜 マスク
サイズ
ガラス
基板
ペクリル
有無
用途 パターン倍率
レチクル 2層クロム
(Binary)
5" , 6" 石英 有or無 ステップ&リピート方式の露光装置
(ステッパー/スキャナー)
5×,4×,2.5×,
2×,1×,
ワーキングマスク ~9" 石英 or
ソーダライム
一括露光方式の露光装置
(アライナー)
マスターマスク ~7" コピーマスク製造用
(一括露光:
プリンター)
コピーマスク 一括露光方式の露光装置
(アライナー)

フォトマスクサイズ

日本フイルコンでは、現在使用される凡そ全てのマスクサイズに対応しております。
下記に掲載されている基板は一般的な半導体規格に準じたものですが、ガラスを切り出すことで規格外の大きさへの切り出しも対応可能です。
10" 以上のサイズも取り扱っており、最大813mm×813mmまで対応します。詳しくは、大板マスクのページをご覧下さい。

サイズ 板厚 0.06" 0.09" 0.12" 0.15" 0.18" 0.20" 0.25"
辺長 mm 0.15 2.30 3.05 3.80 4.60 5.00 6.35
4" 101.2 4006 4009 --- --- --- --- ---
5" 126.6 5006 5009 --- --- 5018 --- ---
6" 152.0 --- 6009 6012 --- --- --- 6025
7" 177.4 --- --- 7012 7015 --- --- ---
9" 228.6 --- --- 9012 --- --- 9020 9025
UT1X   --- 3"x 5" --- --- --- --- ---
others   --- --- --- 7.25R --- --- ---

10"~813mm×813mmも取り扱います

フォトマスク仕様

タテ・ヨコのラインをベースにした場合で、最小0.5µmのライン&スペースまで対応しております。
実際には、マスクサイズ等により解像可能な線幅が異なりますので、デザイン確認後、可否を回答させて頂いております。

マスクタイプ レチクル、ワーキング・マスター コピー・マスク
露光方法 レーザー描画 コンタクトプリント
最小線幅 0.5µm ~ 2.0µm ~
線幅精度 ±0.05µm ~ ±0.3µm ~
位置精度 ±0.05µm ~ ±1µm ~
欠陥検査規格 0.5µm以上 0個 ~ 2.0µm以上 0.3個/cm2
お電話からのお問い合わせ・ご相談は 日本フイルコン フォトマスク事業部 営業部まで 042-378-4141 【受付】9:00-18:00(土・日祝日 休み)
  • WEBのお問い合わせご相談 お問い合わせフォームへ

バイナリータイプのフォトマスクを提供。1インチから813mmx813mmまでの中大型サイズまで対応

このページのトップへ