半導体製造用のフォトマスクのご紹介

FILCON PHOTOMASK

半導体

半導体

半導体向けのフォトマスクとしてディスクリート、パワーデバイス、ASIC、マイコンなど、0.35µm ルールを中心として数多くのレチク ルの納入実績があります。2001年にOMEGA 導入後、日本フイルコンは積極的に設備投資を行なってきました。量産工場の品質を保証するだけの検査装置も充実しており、順調に実績を伸ばしています。

この業界では、コスト競争力が一層と必要とされるということを、私たちは十分理解しています。
お客様のものづくりのパートナーとして、是非一度お声かけください。

【対応デバイス】

アナログIC / バイポーラ型IC / MPU / ディスプレイドライバ-用IC / ミックスドシグナルIC / バイポーラトランジスタ / ダイオード / パワーMOSFET / IGBT / etc

日本フイルコンが選ばれる理由

  • 大手半導体メーカーへの納入実績が多数あります。
  • コスト競争力があります。
  • 高性能描画機と検査装置を揃えております。
  • 熟練した技術スタッフが特殊なご要望にもチャレンジします。
  • EBデータでもGDSⅡでも受付ができます。
  • 裏面や後工程向けでは、高精度な9インチマスクが製作できます。
半導体イメージ写真

1µm DOT

1µm DOT

マスクの規格

基 盤 材 質 倍 率 対応装置
5×5×0.09inch 石英 1×, 5× Nikon, Canon, ASML, Ultratec etc...
6×6×0.25inch 1×, 2×, 2.5×, 4×, 5×

その他各種基板に対応

最小寸法 最小寸法保証 位置精度 欠陥保証精度
0.5µm~ ±0.05µm ±0.05µm 0.5µm以上 0個~
お電話からのお問い合わせ・ご相談は 日本フイルコン フォトマスク事業部 営業部まで 042-378-4141 【受付】9:00-18:00(土・日祝日 休み)
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半導体産業の発展をフォトマスク技術で支援。フォトマスクは日本フイルコンへ

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