高精度な半導体用のフォトマスク、ステッパー用のレチクル、アライナー用のフォトマスクなどの製品概要

FILCON PHOTOMASK

長年の歴史と最先端技術だから実現出来る。信頼性が高く高精度なフォトマスクを提供します

フォトマスクとは

  • フォトマスクは、 「電子デバイス(半導体)」、「ディスプレイ」、「プリント基板」 、 「マイクロマシン/MEMS」などを製造するときに使用されるツールで、パターニングの原版になるものです。
  • 「電子回路」、「ディスプレイ」の形成には、写真技術(フォトリソグラフィ) が利用されており、フォトマスクはそれらを形成する基板にパターンを転写するために使用されます。
  • フォトマスクは、写真で例えると、「ネガフィルム」の役目に当たり、 「電子回路」などを形成する基板が「印画紙」にあたります。

フォトマスクの用途

  • CPU やメモリなどの電子デバイス (半導体 / 集積回路)
  • トランジスタ、コンデンサなど単機能のディスクリート半導体
  • CCD/CMDSイメージセンサやLED などの受光、発光素子
  • マザーボードなどのプリント基板
  • 液晶・OLEDなどの画像表示デバイス
  • 加速度センサーなどのマイクロマシン (MEMS)
  • ハードディスクの磁気ヘッド
  • インクジェットプリンターのヘッド

レチクルを使用した電子デバイスの製造工程

レチクルは主に半導体製造の前工程で使用されます。
シリコン等のウエハに転写するパターンをガラスの上にデザインし、露光装置を通して、ウエハに反映させていきます。

レチクルを使用した電子デバイスの製造工程の図
  • 前工程とは、半導体の元になるウエハに回路を作り込んでいく工程です。 レチクルは前工程の露光用途で使用されます。
  • 後工程とは、ウエハの製品チップへの切り出しや封入(保護)など、回路形成を行なった後の組立工程です。
  • ステッパーとは、半導体製造で使用される露光装置です。回路線幅に応じた波長の光を用いて、レチクルのデザインをウエハに転写させます。
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