- フォトマスクは、 「電子デバイス（半導体）」、「ディスプレイ」、「プリント基板」 、 「マイクロマシン/MEMS」などを製造するときに使用されるツールで、パターニングの原版になるものです。
- 「電子回路」、「ディスプレイ」の形成には、写真技術（フォトリソグラフィ） が利用されており、フォトマスクはそれらを形成する基板にパターンを転写するために使用されます。
- フォトマスクは、写真で例えると、「ネガフィルム」の役目に当たり、 「電子回路」などを形成する基板が「印画紙」にあたります。
- CPU やメモリなどの電子デバイス （半導体 / 集積回路）
- トランジスタ、コンデンサなど単機能のディスクリート半導体
- CCD/CMDSイメージセンサやLED などの受光、発光素子
- マザーボードなどのプリント基板
- 液晶・OLEDなどの画像表示デバイス
- 加速度センサーなどのマイクロマシン （MEMS）
- ハードディスクの磁気ヘッド
- インクジェットプリンターのヘッド
レチクルは主に半導体製造の前工程で使用されます。
シリコン等のウエハに転写するパターンをガラスの上にデザインし、露光装置を通して、ウエハに反映させていきます。
- 前工程とは、半導体の元になるウエハに回路を作り込んでいく工程です。 レチクルは前工程の露光用途で使用されます。
- 後工程とは、ウエハの製品チップへの切り出しや封入（保護）など、回路形成を行なった後の組立工程です。
- ステッパーとは、半導体製造で使用される露光装置です。回路線幅に応じた波長の光を用いて、レチクルのデザインをウエハに転写させます。
