半導体製造用のフォトマスクのご紹介

半導体向けのフォトマスクとしてディスクリート、パワーデバイス、ASIC、マイコンなど、0.35µm ルールを中心として数多くのレチク ルの納入実績があります。2001年にOMEGA 導入後、日本フイルコンは積極的に設備投資を行なってきました。量産工場の品質を保証するだけの検査装置も充実しており、順調に実績を伸ばしています。

この業界では、コスト競争力が一層と必要とされるということを、私たちは十分理解しています。
お客様のものづくりのパートナーとして、是非一度お声かけください。

• 大手半導体メーカーへの納入実績が多数あります。
• コスト競争力があります。
• 高性能描画機と検査装置を揃えております。
• 熟練した技術スタッフが特殊なご要望にもチャレンジします。
• EBデータでもGDSⅡでも受付ができます。
• 裏面や後工程向けでは、高精度な９インチマスクが製作できます。

1µm DOT