- 高解像度 (バイナリー限界、位相シフト)
- 計測値較正 (寸法補正、国家標準準拠)
- 成膜光学濃度可変 (透過率コントロール、高OD)
- 露光波長対応、ハイパワー光源対応
Cr on QZ (dry profile)
濃度調整 / 回折格子 / 基準目盛 / ピンホール
- フォトマスクメーカーだからこそ実現できる、高精度加工が可能です。
- どんなパターンにも対応可能です。
- プレートは1~9インチまで、加工精度に応じて選択が可能です。
- オーダーメイドなデザインで1枚から承ります。
- ご要望に応じて、BPFやAR成膜も可能です。
プレート | 基板材質 | 成膜種 | 限界加工寸法 | 加工公差 | 位置精度 |
---|---|---|---|---|---|
1~4 inch □(裁断) | 石英 | クロム、特殊膜 | 600nm | ±60nm | ±70nm |
5 inch □ | 石英 | クロム、特殊膜 | 600nm | ±60nm | ±70nm |
6 inch □ | 石英 | クロム、特殊膜 | 200nm、400nm | ±20nm、±40nm | ±50nm |
7 inch □ | 石英 | クロム | 700nm | ±100nm | ±150nm |
9 inch □ | 石英 | クロム | 700nm | ±100nm | ±150nm |
大版 | 石英 | クロム | ご相談 | ご相談 | ご相談 |
All on MASK
*)プレート、材質、寸法、公差、位置精度には、組み合わせによる制約がございます。詳細はご相談下さい。
*)出荷形状は、正方、長方、円形などから選択が可能です