日本フイルコンのフォトマスク事業は、1981 年に発足して以来、幾多の投資、設備増強を経て、今日まで半導体関連のレチクル、マスター＆コピーマスクを主力にフォトマスクを量産してきました。取り扱う製品の分野は、IC， パワーデバイス、ディスクリート、レーザーダイオード、LCD/OLED 、光導波路、LED， 各種スケールなど多岐に渡り、 世界の電子・電気業界に使用されている多くのデバイス製作に寄与しています。人間が設計した構想を具現化して最初に形にするものであり、世の中に送り出すために絶対に必要なもの．．．それがフォトマスクです。
私たちフォトマスクメーカーは、人間社会とテクノロジーを繋ぐ役割を担っています。
日々の滞りない点検、一歩先の技術への挑戦、製品に対する熱い思い入れとこだわり、常に革新を目指す上昇志向。私たちは仕事を楽しみ、仕事に誇りを持って、皆様の明日を担うという自負を抱いてモノづくりに取り組んでおります。これこそエンジニアの原点であり、その人材と技術が日本フイルコンの財産です。
私たち、日本フイルコン ファインエレクトロニクスカンパニーは以下の理念をポリシーとし、お客様へのサービス、技術向上に励みます。
ファインエレクトロニクスカンパニーは、下記の図の通り5つの部署から構成されています。
- 1936 年日本金網株式会社として会社設立
- 1972 年商号を日本フイルコン株式会社に変更
- 1982 年ミクロ製品事業部にてフォトマスク製造開始
- 1998 年マイクロニック LRS200 導入
- 2001 年マイクロニック OMEGA 導入
- 2008 年クリーンルーム拡張とともにOMEGA 最新機導入
- 2010 年フォトマスク事業部設立
- 2014 年ファインエレクトロニクスカンパニーへ統合
